更改山体阴影的入射角度

在将地貌晕渲或山体阴影应用于数字高程模型 (DEM) 时，您可能需要更改入射角度。ArcMap 窗口中提供了三个用于更改照明属性的位置：

• “数据框属性”对话框
• “影像分析”窗口的“处理选项”对话框
• “图层属性”对话框

1. 要更改数据框的照明属性，可以执行以下操作：
   1. 右键单击包含 DEM 图层的数据框，然后单击数据框属性。
   2. 单击照明选项卡。
   3. 调整方位角。
   4. 调整高度角。
   5. 此外，还可以调节山体阴影的对比度。
   6. 单击应用以查看所做的更改。
   7. 单击确定关闭数据框属性 对话框。
2. 要使用“影像分析”窗口对创建山体阴影或地貌晕渲图层时所应用的照明属性进行更改，可以执行以下操作：
   1. 在影像分析 窗口中，单击影像分析选项按钮 。
   2. 单击山体阴影选项卡，然后调整照明属性。
   3. 单击确定关闭处理选项 对话框。

   注：

   必须在单击地貌晕渲按钮 之前设置照明属性；否则，需要执行以下步骤。

3. 要更改通过“影像分析”窗口创建的山体阴影或地貌晕渲图层的照明属性，可以执行以下操作：
   1. 使用地貌晕渲按钮 创建山体阴影栅格图层。
   2. 右键单击内容列表中的栅格图层，然后单击属性。
   3. 单击函数选项卡。

      函数将被添加到镶嵌数据集中，并位于通过影像分析 窗口创建的临时栅格图层旁边。这些函数将用于定义动态应用的处理功能。

   4. 右键单击地貌晕渲函数，然后单击属性。
   5. 单击地貌晕渲选项卡，然后编辑属性。
   6. 单击确定关闭栅格函数属性 对话框，然后再次单击确定关闭图层属性 对话框。